販売レポート

半導体

SiC MOSFET(1200V):Nomis Power N3T080MP120D 解析レポート

パッケージ外観 チップ外観

レポート概要

 Nomis Power社は、アメリカにあるアルバニー大学のスピンアウトとして2020年に設立され、024年に同社初の1200V SiC MOSFET製品群がリリースされました。
 N3T080MP120Dはその製品群の一つであり、本解析レポートでは、 Nomis Power製品の技術的な特徴を明らかにするためN3T080MP120Dのチップ観察やトランジスタセル断面についての簡易的な解析と、他社製品との比較を行っています。
 また、 Nomis Powerは本製品の特長としてゲート酸化膜の高信頼性を謳っており、(1)ゲート酸化膜の厚さ、および(2)ゲート酸化膜の強度(Igss-Vds-T特性)について、構造解析レポートの中で評価する予定です。

製品特徴

型番: N3T080MP120D  VDS=1200V、ID=38A、RDS(ON)=80mΩ 製品リリース日:2024年8月

データシート: https://nomispower.com/wp-content/uploads/2024/08/NoMIS-Power-N3T080MP120D.pdf

  • アプリケーション:EV車載充電器、EV急速充電ステーション、モータードライブ、太陽光発電インバーター、エネルギー貯蔵システム、ソリッドステートパワーコントローラーなど

解析内容&レポート価格

概要解析レポート 価格¥300,000(税別)  発注後1weekで納品

  • 本製品の固有抵抗RonxAA(アクティブエリア)=321mΩ/mm2、
    エルテックのデータベースによると、第3世代技術に相当する。
  • 六角形状のプレーナー型ゲート構造を採用。
  • 外周部の耐圧構造として2種類のGuard ringとJTEが使用されており、外周部の幅は
    同耐圧製品と比較して2倍以上となっている (JTE : Junction Termination Extension)。
本製品の詳細な構造解析レポートや短絡耐量評価レポートもご興味がございましたら、
エルテックまでお問い合わせください。

レポートパンフレット


25R-0453-1 Br-L2 SiC MOSFET(1200V) :Nomis Power N3T080MP120D 概要解析レポート (Release)


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